真空鍍膜技術是氣相物理沉積的方法之一,也叫真空電鍍.是在真空條件下,用蒸發器加熱鍍膜材料使之升華,蒸發粒子流直接射向基體,在基體表面沉積形成固體薄膜.
1、鍍覆材料廣泛:可作為真空鍍蒸發材料有幾十種,包括金屬、合金和非金屬.真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣,加工出多層結構的復合膜,滿足對涂層各種不同性能的需求.
2、真空鍍膜技術可以實現不能通過電沉積方法形成鍍層的涂覆:如鋁、鈦、鋯等鍍層,甚至陶瓷和金剛石涂層,這是十分難能可貴的.
3、真空鍍膜性能優良:真空鍍膜厚度遠小于電鍍層,但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好,孔隙率低,而且無氫脆現象,相對電鍍加工而言可以節約大量金屬材料.
4、環境效益優異:真空鍍膜加工設備簡單、占地面積小、生產環境優雅潔凈,無污水排放,不會對環境和操作者造成危害.在注重環境保護和大力推行清潔生產的形勢下,真空鍍膜技術在許多方面可以取代電鍍加工.
標簽：真空鍍膜
